Czynniki chłodnicze stosowane w urządzeniach FUJITSU

Po wejściu w życie ustawy o Substancjach Zubożających Warstwę Ozonową [SZWO] ( Dz.U.2004.121.1263 ) sukcesywnie od 2004 roku urządzenia pracujące z czynnikiem R22 są wycofywane z użycia.
Powodów dla których zaczęto wycofywać czynniki zawierające chlor można upatrywać w odkryciu pewnych zjawisk zachodzących po przedostaniu się czynnika do atmosfery. Cząsteczka czynnika chłodniczego grupy SZWO, uwolniona z instalacji wędruje aż do stratosfery (15 ÷ 50 km nad ziemią). Pod wpływem promieniowania UV następuje fotodysocjacja i od cząsteczki czynnika odłącza się atom chloru, który rozbija cząsteczkę ozonu. W wyniku tej reakcji powstają: tlenek chloru + cząsteczka tlenu (Cl+O3=ClO+O2), dalej tlenek chloru zachodzi w reakcję z kolejną cząsteczką ozonu (ClO+O3=Cl+2O2), itd. Szacuje się iż pojedynczy atom chloru może zniszczyć 10 ÷ 100 tyś. cząsteczek ozonu.
Urządzenia FUJITSU obecnie wprowadzane na rynek pracują z czynnikami : R407C oraz R410A dla których współczynnik niszczenia warstwy ozonowej jest równy 0 ( nie zawierają atomów chloru ).
Podstawowe różnice pokrótce opisano w poniższej tabeli:

 

 
CZYNNIK GRUPY HCFC
CZYNNIK GRUPY HFC
(nie zawiera atomu Chloru)
NAZWA CZYNNIKA
R22
R407C
R410A
WZÓR CHEMICZNY / SKŁADNIKI
CHClF2
HFC32 / HFC125 / HFC134a
HFC32 / HFC125
SKŁAD MIESZANINY [%]
100
23 / 25 /
52
50 / 50
RODZAJ MIESZANINY
POJEDYŃCZY SKŁADNIK
MIESZANINA ZEOTROPOWA1
MIESZANINA PSEUDO-AZEOTROPOWA2
CIŚNIENIE NASYCENIA
26˚C [MPa]
0,9714
1,126
1,608
WSPÓŁCZYNNIK NISZCZENIA WARSTWY OZONOWEJ – ODP
0,034
0
0
WSPÓŁCZYNNIK EFEKTU CIEPLARNIANEGO – GWP
1700
1700
2000
OLEJ
MINERALNY (SUNISO)
SYNTETYCZNY ( ETEROWY LUB ESTROWY )