Czynniki chłodnicze stosowane w urządzeniach FUJITSU

Po wejściu w życie ustawy o Substancjach Zubożających Warstwę Ozonową [SZWO] ( Dz.U.2004.121.1263 ) sukcesywnie od 2004 roku urządzenia pracujące z czynnikiem R22 są wycofywane z użycia.

Powodów dla których zaczęto wycofywać czynniki zawierające chlor można upatrywać w odkryciu pewnych zjawisk zachodzących po przedostaniu się czynnika do atmosfery. Cząsteczka czynnika chłodniczego grupy SZWO, uwolniona z instalacji wędruje aż do stratosfery (15 ÷ 50 km nad ziemią). Pod wpływem promieniowania UV następuje fotodysocjacja i od cząsteczki czynnika odłącza się atom chloru, który rozbija cząsteczkę ozonu. W wyniku tej reakcji powstają: tlenek chloru + cząsteczka tlenu (Cl+O₃=ClO+O₂), dalej tlenek chloru zachodzi w reakcję z kolejną cząsteczką ozonu (ClO+O₃=Cl+2O₂), itd. Szacuje się iż pojedynczy atom chloru może zniszczyć 10 ÷ 100 tyś. cząsteczek ozonu.

Urządzenia FUJITSU obecnie wprowadzane na rynek pracują z czynnikami : R407C oraz R410A dla których współczynnik niszczenia warstwy ozonowej jest równy 0 ( nie zawierają atomów chloru ).

Podstawowe różnice pokrótce opisano w poniższej tabeli:

	CZYNNIK GRUPY HCFC	CZYNNIK GRUPY HFC (nie zawiera atomu Chloru)
NAZWA CZYNNIKA	R22	R407C	R410A
WZÓR CHEMICZNY / SKŁADNIKI	CHClF₂	HFC32 / HFC125 / HFC134a	HFC32 / HFC125
SKŁAD MIESZANINY [%]	100	23 / 25 / 52	50 / 50
RODZAJ MIESZANINY	POJEDYŃCZY SKŁADNIK	MIESZANINA ZEOTROPOWA¹	MIESZANINA PSEUDO-AZEOTROPOWA²
CIŚNIENIE NASYCENIA 26˚C [MPa]	0,9714	1,126	1,608
WSPÓŁCZYNNIK NISZCZENIA WARSTWY OZONOWEJ – ODP	0,034	0	0
WSPÓŁCZYNNIK EFEKTU CIEPLARNIANEGO – GWP	1700	1700	2000
OLEJ	MINERALNY (SUNISO)	SYNTETYCZNY ( ETEROWY LUB ESTROWY )