Czynniki chłodnicze stosowane w urządzeniach FUJITSU

Po wejściu w życie ustawy o Substancjach Zubożających Warstwę Ozonową [SZWO] ( Dz.U.2004.121.1263 ) sukcesywnie od 2004 roku urządzenia pracujące z czynnikiem R22 są wycofywane z użycia.
Powodów dla których zaczęto wycofywać czynniki zawierające chlor można upatrywać w odkryciu pewnych zjawisk zachodzących po przedostaniu się czynnika do atmosfery. Cząsteczka czynnika chłodniczego grupy SZWO, uwolniona z instalacji wędruje aż do stratosfery (15 ÷ 50 km nad ziemią). Pod wpływem promieniowania UV następuje fotodysocjacja i od cząsteczki czynnika odłącza się atom chloru, który rozbija cząsteczkę ozonu. W wyniku tej reakcji powstają: tlenek chloru + cząsteczka tlenu (Cl+O3=ClO+O2), dalej tlenek chloru zachodzi w reakcję z kolejną cząsteczką ozonu (ClO+O3=Cl+2O2), itd. Szacuje się iż pojedynczy atom chloru może zniszczyć 10 ÷ 100 tyś. cząsteczek ozonu.
Urządzenia FUJITSU obecnie wprowadzane na rynek pracują z czynnikami : R407C oraz R410A dla których współczynnik niszczenia warstwy ozonowej jest równy 0 ( nie zawierają atomów chloru ).
Podstawowe różnice pokrótce opisano w poniższej tabeli:

 

 
CZYNNIK GRUPY HCFC
CZYNNIK GRUPY HFC
(nie zawiera atomu Chloru)
NAZWA CZYNNIKA
R22
R407C
R410A
WZÓR CHEMICZNY / SKŁADNIKI
CHClF2
HFC32 / HFC125 / HFC134a
HFC32 / HFC125
SKŁAD MIESZANINY [%]
100
23 / 25 /
52
50 / 50
RODZAJ MIESZANINY
POJEDYŃCZY SKŁADNIK
MIESZANINA ZEOTROPOWA1
MIESZANINA PSEUDO-AZEOTROPOWA2
CIŚNIENIE NASYCENIA
26˚C [MPa]
0,9714
1,126
1,608
WSPÓŁCZYNNIK NISZCZENIA WARSTWY OZONOWEJ – ODP
0,034
0
0
WSPÓŁCZYNNIK EFEKTU CIEPLARNIANEGO – GWP
1700
1700
2000
OLEJ
MINERALNY (SUNISO)
SYNTETYCZNY ( ETEROWY LUB ESTROWY )
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

Ta strona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Korzystając ze strony wyrażasz zgodę na wykorzystywanie plików cookies. Więcej informacji

Ta strona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Korzystając ze strony wyrażasz zgodę na wykorzystywanie plików cookies.

Zamknij